DEEPPOINT

EUV露光（EUV Lithography）

要点

半導体に極めて微細な回路を焼き付ける、最先端の製造技術。

定義

EUV露光とは

EUV露光は、半導体を作る際に、極端紫外線という波長の短い光を使って、回路の細かい模様を焼き付ける技術です。露光は、写真の現像のように光で回路の図形を転写する工程を指します。光の波長が短いほど細い線を描けるため、EUVは最先端の微細な半導体づくりに欠かせません。装置はオランダのASMLがほぼ独占して製造しており、極めて高額で精密です。先端半導体の製造能力を左右する重要な技術となっています。

関連するデータ

ディープテックDBと連動

ディープテックDBでは、この用語に近い分野「半導体・GPU」のスタートアップを95社収録しています。半導体・GPUの分野ページへ

調達額の多い会社

  1. Preferred Networks349億円
  2. アトナープ106億円
  3. フローディア47億円
  4. 大熊ダイヤモンドデバイス41億円
  5. FLOSFIA36億円

開催予定のイベント

同じカテゴリの用語

用語集の一覧へ戻る