EUV露光

EUV露光は、半導体を作る際に、極端紫外線という波長の短い光を使って、回路の細かい模様を焼き付ける技術です。露光は、写真の現像のように光で回路の図形を転写する工程を指します。光の波長が短いほど細い線を描けるため、EUVは最先端の微細な半導体づくりに欠かせません。装置はオランダのASMLがほぼ独占して製造しており、極めて高額で精密です。先端半導体の製造能力を左右する重要な技術となっています。