独自の真空蒸着技術で高融点金属酸化膜を緻密な厚膜に成膜し、半導体製造装置などの耐食性保護膜を開発・受託成膜する。
主なメンバー1名
- 石川道夫代表取締役社長
最終確認 2026-09-28(10日前)掲載情報は編集部作成
- 特許(国内)3件特許庁データ 2026-10-01 時点
コメント
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知財
公的DB3特許0意匠0商標国内・法人名義。特許庁データ 2026-10-01 時点
独自の真空蒸着技術で高融点金属酸化膜を緻密な厚膜に成膜し、半導体製造装置などの耐食性保護膜を開発・受託成膜する。