山形大学発。廣瀬研究室のナノ薄膜製造研究をもとに JST START の支援を受けて設立され、室温での原子層堆積（ALD）による薄膜コーティングの研究開発・製造支援を行う。
主なメンバー1名
- 坂本 仁志代表取締役
最終確認 2026-08-20（55日前）掲載情報は編集部作成
- 特許（国内）5件特許庁データ 2026-10-01 時点
基礎論文・研究成果
1本- 2017年室温原子層堆積法とその応用応用物理 第86巻9号同社サイトが山形大学廣瀬教授らの文献として掲載する総説。
製品と到達段階
2件室温原子層堆積装置
用途・膜種に応じて設計開発し販売する室温原子層堆積装置。
サンプル用室温原子層堆積装置
大学研究機関向けの小規模なサンプル用装置。
コメント
- 出身研究室Coming Soon
- 投資家Coming Soon
- DEEPPOINT編集部Coming Soon
社史
1件2019
- 2019年3月12日創業山形大学発ベンチャーとして山形県米沢市に設立。
知財
公的DB5特許0意匠0商標国内・法人名義。特許庁データ 2026-10-01 時点
gBizINFO（法人番号2390001015634）上の特許は5件。
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