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ULTEC

名古屋大学発

ULTEC Inc.

名古屋大学発。窒化アルミニウムを使うウルトラワイドギャップ半導体を基盤に、深紫外線レーザーダイオード、遠紫外線 LED、深紫外線センサ、高耐圧パワーデバイスを開発・事業化する。

半導体・GPU窒化アルミニウム(AlN)ウルトラワイドギャップ半導体深紫外線レーザーダイオード愛知県名古屋市千種区|設立 2025年
主なメンバー1名
  • 吉川陽CEO
技術の出身名古屋大学 天野・本田研究室2025年 創業
最終確認 2026-09-28(10日前)掲載情報は編集部作成

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  • 出身研究室Coming Soon
  • 投資家Coming Soon
  • DEEPPOINT編集部Coming Soon

知財

公的DB
0特許0意匠0商標国内・法人名義。特許庁データ 2026-10-01 時点

最終確認 2026-09-28。掲載情報は編集部が公開情報から作成し、出所を項目ごとに示しています。

掲載基準・出典・免責

出典: asahi-kasei.com、ultec.co.jp

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