東京大学発。独自の「多能性中間膜」技術による化合物半導体エピタキシャル基板の研究開発・製造を行う。
主なメンバー4名
- 中尾 健人代表取締役社長(CEO) / 共同創業者2022年〜
- 木島 健最高科学責任者(CSO) / 共同創業者 / 執行役員
- 中野 聖大最高執行責任者(COO) / 執行役員
- 味岡 正樹最高生産責任者(CMO)2024年4月〜
最終確認 2026-08-13（63日前）掲載情報は編集部作成
- 累計調達額20億円
- 直近の調達から7か月1回の調達
基礎論文・研究成果
1本- 2021年Epitaxial growth technique for single-crystalline PbTiO3 thin film on Si substrate using an HfO2 buffer layerJapanese Journal of Applied Physics 60, SFFB14 ・ DOI 10.35848/1347-4065/ac223e当社が技術ページで共同研究成果として明記。DOIはCrossrefで実在確認（2021-09-17）。
製品と到達段階
3件多能性®中間膜
格子不整合を緩和し、多層で高品質な単結晶膜の形成を可能にする中間膜技術（動的格子マッチング）。
単結晶PZT薄膜
自発圧電性を保持し、450℃でも脱分極しない単結晶圧電薄膜。6/4インチで提供、12インチ大口径化を視野。
単結晶エピタキシャルウェハ
結晶・機能・基板材料を選ばない高品質単結晶エピタキシャルウェハ。化合物半導体向け。
コメント
- 出身研究室Coming Soon
- 投資家Coming Soon
- DEEPPOINT編集部Coming Soon
資金調達
1件| 発表日 | ラウンド | 調達額 | 引受先 | 出典 |
|---|---|---|---|---|
| 2026/03/09 | シリーズC | ¥20億 シリーズC 1stラウンド。累計調達額は約38.5億円 | 東京大学エッジキャピタルパートナーズ、JX金属、JICベンチャー・グロース・インベストメンツ、アルコニックス、i-nest capital、SMBCベンチャーキャピタル、三井金属CVC2号ファンド、Vertex Ventures Japan、東レインターナショナル、きらぼしキャピタル |
社史
8件2026
- 2026年8月3日移転本社を東京大学本郷キャンパス内の別建屋（アントレプレナープラザ）へ移転。
- 2026年3月販売2社でデザインウィン完了、国内外約40社から共同開発・評価の引き合い
2025
- 2025年8月受賞Forbes Asia「100 To Watch 2025」Editors' Pickに選出
- 2025年4月共同開発三井金属（機能性液体事業化推進部）iconos™を用いたスピンコート法でニオブ酸リチウム・タンタル酸リチウムの単結晶薄膜を事業化する提携。2026年以降の実用化を目指す。
2024
- 2024年11月上市・量産山梨テクニカルセンター（YTC）開設
2023
- 2023年1月受賞文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ事業の利用成果「最優秀賞」に選定
2021
- 2021年11月創業株式会社Gaianixx設立。
時期不明
- 共同研究東京大学（田畑研究室）医工学応用に向けた単結晶圧電体基板の高品質化を可能にする成長技術の共同研究。
知財
公的DB0特許0意匠21商標国内・法人名義。特許庁データ 2026-10-01 時点。海外出願あり
当社リリースは「12件の特許を権利化（うち11件は中核技術である多能性®中間膜に関する独自特許）」「国内外で87件を継続出願中」と公表している。
出展・登壇するイベント
1件- 前回SusHi Tech Tokyo 2026（次回 SusHi Tech Tokyo 2027）出展
登壇は登壇者の所属で、その会社の出展とは限りません。
近い企業
同じ分野
Gaianixx
（準備中）