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産業技術総合研究所発NEDO GX採択シード

AirMembrane

産業技術総合研究所発。CVD法で大面積の高品質グラフェンを量産する技術を核に、EUVペリクルなどを開発する。

半導体・GPU素材・化学多層グラフェンEUVペリクルCVDグラフェン合成茨城県つくば市|設立 2017年
主なメンバー1名
  • 長谷川 雅考代表取締役社長2024年6月〜
技術の出身産業技術総合研究所Carbon 20202017年 創業
最終確認 2026-09-17(54日前)掲載情報は編集部作成
  • 累計調達額1億円非公開1件を除く
  • 直近の調達から16か月2回の調達

基礎論文・研究成果

2本

製品と到達段階

4件

コメント

  • 出身研究室Coming Soon
  • 投資家Coming Soon
  • DEEPPOINT編集部Coming Soon

資金調達

2件
発表日ラウンド調達額引受先出典
2025/06/13シード非公開

2025年1月と5月に実施したシード資金の追加調達をまとめて発表したもの。金額は非公表

常陽キャピタルパートナーズ、三菱UFJキャピタル
2024/08/23シード¥1億

NEDO 個社ページが挙げる「プレシリーズA 10億円」は自社発表に見当たらず、確認できたのはこのシードラウンドのみ

グローバル・ブレイン、Shinhan Venture Investment、Central Japan Seed Fund

社史

10件

2025

  • 2025年採択NEDO GX分野のディープテック・スタートアップ支援(GX)STS

2024

  • 2024年6月1日代表交代長谷川雅考が代表取締役社長に就任。

2023

  • 2023年7月7日販売グラフェン電界効果トランジスタ「FR01」を新発売
  • 2023年5月26日出来事自動転写で積層したグラフェンでFETを動作させることに成功

2022

  • 2022年9月6日出来事2層グラフェンTEMグリッドでアポフェリチンの歴代最高分解能を達成高エネルギー加速器研究機構
  • 2022年9月共同研究高エネルギー加速器研究機構2層グラフェンTEMグリッドを用いた共同研究で、アポフェリチンの歴代最高分解能を達成。
  • 2022年7月28日出来事自動積層による100層の多層グラフェンの形成に成功

2021

  • 2021年12月15日受賞いばらきイノベーションアワードで優秀賞を受賞いばらきイノベーションアワード
  • 2021年3月22日出来事グラフェンの自動転写技術を開発し、多層のグラフェンを形成

2017

  • 2017年創業産業技術総合研究所のグラフェン研究成果を基に創業。

知財

公的DB
0特許0意匠0商標国内・法人名義。特許庁データ 2026-10-01 時点

gBizINFO(法人番号9050001043142)上の特許は0件。

出展・登壇するイベント

2件

登壇は登壇者の所属で、その会社の出展とは限りません。

最終確認 2026-09-17。掲載情報は編集部が公開情報から作成し、出所を項目ごとに示しています。

掲載基準・出典・免責

出典: airmembrane.co.jp、info.gbiz.go.jp

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